1965年沃爾什和赫爾佐格提出二氧化硅溶膠和凝膠拋光的方法，自此，以二氧化硅漿料為代表的化學機械拋光（CMP）工藝就逐漸取代了機械拋光的主導地位；20世紀80年代中期，...
早上9時左右，敲開寧波潤平電子材料有限公司董事長惠宏業(yè)的辦公室時，他正接起當天的第5個電話。電話接二連三，有催訂...
集成電路是現(xiàn)代化產業(yè)體系的核心樞紐，半導體材料作為集成電路產業(yè)的基石，在集成電路制造技術不斷升級和產業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新...
鼎龍股份披露投資者關系活動記錄表顯示，研磨粒子是CMP拋光液的核心原材料，對拋光液產品品質有較大影響，同時在拋光液的材料成本中占比較高。公司實現(xiàn)了研磨粒子的自主制備，有...
拋光液中磨料的作用主要是在晶圓和拋光墊的界面之間進行機械研磨，以確保CMP過程中的高材料去除率。同時，磨料也是影響拋光液穩(wěn)定性的重要因素之一。眾多磨料中，SiO2磨料因...
?金太陽12月27日在互動平臺表示，公司參股子公司東莞領航電子新材料有限公司主要產品包括了IC、硅晶圓、碳化硅用半導體拋光液，3C消費電子用精密拋光液和清洗液........
化學機械拋光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技術是超大規(guī)模集成電路制造工藝中的關鍵技術之一，能實現(xiàn)集成電路（IC）制造中晶圓表面全局平...
據(jù)臺灣《經(jīng)濟日報》援引日經(jīng)亞洲今日報道，日本昭和電工將投資1.5億美元（200億日元）擴建其日本及中國臺灣工廠的半導體CMP拋光液產能，產能總增幅約為20%，新產能預計...
3月28日，中國超硬材料網(wǎng)市場總監(jiān)劉小雨、市場經(jīng)理高峰一行走...
公元1278年，此時的南宋就如零丁洋里的一片到處漏水的孤舟，...
2023年9月20日，時隔四年，期待已久的第六屆磨料磨具磨削展覽會在鄭州國際會展中心隆重開幕。本次展覽會由中國機械工業(yè)集團有限公司、國機精工股份有限公司、中國機械國際合作股份有限公司聯(lián)合主辦。旨在推動中國磨料磨具行業(yè)的快速發(fā)展，加強國內外企業(yè)的交流與合作。
1963年，我國成功研制出第一顆人造金剛石，經(jīng)過幾代人的拼搏奮斗，實現(xiàn)了從無到有、從小到大、從弱到強的華麗蝶變。人造金剛石及其制品在我國航空航天、國防軍工、機床機械等領域發(fā)揮著愈發(fā)重要的作用。不僅如此，隨著金剛石技術的選代，金剛石民用領域—培育鉆石迎來了自己的大爆發(fā)，中國占據(jù)了世界培育鉆石產量的80%以上，近幾年在國際上產生了巨大影響力。
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