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金剛石鍍膜概述

關(guān)鍵詞 金剛石鍍膜 , 電鍍鎳 , 復(fù)合膜 , 化學(xué)鍍|2012-12-30 09:31:55|制造技術(shù)|來源 互聯(lián)網(wǎng)
摘要 1、概述:人造金剛石可以用爆炸法、爆轟法及靜壓法這三種方法獲得。爆炸法生產(chǎn)量大,生產(chǎn)出來的金剛石單晶為球形納米顆粒;單晶金剛石
       1、概述: 
       人造金剛石可以用爆炸法、爆轟法及靜壓法這三種方法獲得。爆炸法生產(chǎn)量大,生產(chǎn)出來的金剛石單晶為球形納米顆粒;單晶金剛石應(yīng)該有三種形態(tài),六面體由5個(gè)碳原子組成,八面體由6個(gè)碳原子組成,十二面體由8 個(gè)碳原子組成,球形單晶以八面體為多數(shù),單晶粒徑4-6nm,爆炸法及爆轟法獲得的人造金剛石會(huì)與水分子組成結(jié)晶水金剛石,同時(shí)還會(huì)與水分子團(tuán)聚在一起,組成幾微米至十幾微米的納米金剛石團(tuán)聚體;這些團(tuán)聚物,沒有硬度,沒有切削能力,在鍍膜中,受摩擦壓力時(shí),還會(huì)散開,造成對鍍膜的破壞,加速鍍膜的磨損,只有將納米金剛石團(tuán)聚體打散、分解為20-30nm 的硬團(tuán)聚物時(shí),再鍍到鍍膜中,才會(huì)有很高的硬度及耐磨性能。

       靜壓法獲得的金剛石,多為六面體,相互連結(jié),形成微米級(jí)金剛石顆粒,在超聲氣流對撞中,微米級(jí)金剛石很容易破碎為80-160nm顆粒的金剛石,這些金剛石很不規(guī)則,成多棱形、片形等等,硬度高、耐磨,有很好的切削性能,一家生產(chǎn)磁頭的跨國公司就用這種100-125nm 的金剛石懸浮液來拋光磁頭,使磁頭的平面度為±1nm;磁頭是電腦硬盤的核心,磁頭有軟層,如銅層或黃金層,也有硬層,如Al2O3 層,要將軟硬材料混合在一起的多層材料,拋光到平面度±1nm;到目前為止,也只有用金剛石,他們采用的是美國和日本生產(chǎn)的100-125nm顆粒的金剛石懸浮液,其金剛石形態(tài)就是很不規(guī)則的多棱形及片形。

       無論是用爆炸法、爆轟法,還是靜壓法生產(chǎn)的人造金剛石,在作成鍍膜時(shí),都必須用非離子表面活性劑,將金剛石先配制成懸浮液,然后才能添加到電鍍液或化學(xué)鍍液中,并用超聲波對鍍液進(jìn)行振蕩,并用壓縮空氣進(jìn)行攪拌,使金剛石懸浮液充分混合在鍍液中,才能進(jìn)行施鍍,從而獲得含人造金剛石的鍍膜。

      2、人造金剛石鍍膜 

       2.1 電鍍鍍膜:電鍍種類很多,僅介紹電鍍鎳/金剛石,電鍍鎳合金/金剛石,電鍍鉻/金剛石三種鍍膜。 

       2.1.1 電鍍鎳/金剛石復(fù)合膜

        電鍍鎳是一個(gè)應(yīng)用很廣泛的鍍種,是電鍍裝飾鉻及裝飾產(chǎn)品的必須鍍種,鎳鍍層硬度HV0.1220-260,由于鍍鎳層較軟,將金剛石納米粒包容后共沉積在被鍍件表面,添加金剛石量為10-15g/L,金剛石顆粒會(huì)較密集的分布在被鍍的工件表面,在鍍膜中金剛石含量為2%左右,可提高鍍層硬度到HV0.1 300-350。如果鍍液中加入量為3-5g/L,則鍍層硬度沒有明顯提高,且鍍層中的金剛石含量也會(huì)很少。當(dāng)該鍍膜作切割用途時(shí),由于鎳層較軟,鍍膜受到切削力的沖擊作用,金剛石顆粒在鍍膜中會(huì)產(chǎn)生位錯(cuò)移,從而減小了切削作用。在鍍膜中包裹面較少的金剛石顆粒,甚至在受力作用時(shí)會(huì)產(chǎn)生滾動(dòng),切割鍍膜,使金剛石鍍膜迅速破壞磨損,從而不能獲得較好的切削使用效果。

        2.1.2 電鍍鎳合金/金剛石復(fù)合膜 

        為了提高鎳/金剛石復(fù)合膜的硬度,可在電鍍鎳溶液中,添加鈷Co 和錳Mn,形成電鍍NiCoMn /金剛石復(fù)合膜,該鍍層硬度較高,可達(dá)到HV0.1 400-500,這種鎳合金/金剛石復(fù)合膜克服了Ni 鍍層較軟的缺點(diǎn),鍍層較硬,在作切削用途時(shí),受沖擊力的作用,金剛石顆粒不會(huì)產(chǎn)生位錯(cuò)移,也不會(huì)產(chǎn)生滾動(dòng),從而保證了金剛石棱邊的切削作用,以及球形顆粒金剛石在鍍膜中的耐磨作用。
2.1.3 電鍍鉻/金剛石復(fù)合膜

       電鍍硬鉻應(yīng)用也較廣泛,硬鉻層的硬度可達(dá)HV0.1 1050-1200,但鍍層是脆性,金剛石顆粒包容在Cr 中,共沉積在工件表面,受到切削沖擊力作用時(shí),同樣會(huì)產(chǎn)生脆性位錯(cuò)移,甚至起皮,從工件表面脫落,因此,電鍍Cr /金剛石復(fù)合膜建議選用電鍍?nèi)榘足t/金剛石復(fù)合膜,鍍層硬度為HV0.1 860-900,在鍍液中,金剛石的添加量為:10-15g/L,金剛石在鍍層中的含量為2%左右,金剛石在鍍膜中嵌得很牢固,由于鉻層的耐磨性及乳白鉻的潤滑性和金剛石的耐磨、切削性,這是一種很好的耐磨切削鍍層,作各種切削工具,如鉆探用鉆頭,金屬切削刀具、鋸條、金剛銼等都是很適用的鍍膜。

        2.2化學(xué)鍍:NiP/金剛石復(fù)合膜 

       化學(xué)鍍NiP 鍍層是一個(gè)高新科技鍍種,它的環(huán)境污染是電鍍鎳的1/10,是電鍍鉻的1/100,近幾年該鍍種在全世界推廣應(yīng)用十分迅速,已發(fā)展到工業(yè)生產(chǎn)的各個(gè)領(lǐng)域,在IT產(chǎn)業(yè)、電子產(chǎn)業(yè)、機(jī)械工業(yè)、汽車、摩托車、航空、航海、宇航、兵器、氣動(dòng)元件、閥門、管路、塑料、五金、裝飾、建材、交通等各行業(yè)中都得到了廣泛應(yīng)用。
化學(xué)鍍NiP 鍍層的高防腐性、自潤滑性及耐磨性和裝飾性是它得到廣泛應(yīng)用的主要原因,另外是該鍍種投資少、上馬快,很容易見成效,在美國已有1000多家化學(xué)鍍工廠,在我國近幾年發(fā)展也非常迅速,它可以在鐵基合金、銅基合金、鋁基合金、不銹鋼、鎂基合金、塑料上直接鍍,因此,該鍍種大有取代電鍍的趨勢。 

       化學(xué)鍍NiP 鍍層硬度為HV0.1 500-550,徑400℃±10℃×1h熱處理,鍍層硬度為HV0.1850-900,完全可以達(dá)到電鍍鉻鍍層的效果。
       化學(xué)鍍NiP /金剛石復(fù)合膜,在鍍液中的添加量為2g/L,在鍍層中金剛石含量可達(dá)到3%-3.5%,高于電鍍層中的金剛石含量。而在鍍液中的添加量是電鍍液中添加量的1/5-1 /10,因此成本相應(yīng)還可低一些,第一次投資相應(yīng)會(huì)少一些。
由于化學(xué)鍍NiP /金剛石復(fù)合膜對金剛石顆粒具有最好的包裹效果,因此金剛石顆粒受到?jīng)_擊切削力作用時(shí),不會(huì)產(chǎn)生位錯(cuò)移,不會(huì)損傷鍍膜,因此無論是作切削工具用鍍膜,還是作耐磨性鍍膜都可達(dá)到很好的使用效果。

       3、結(jié)論:

       3.1切削工具用鍍膜

       切削工具用鍍膜最好選用靜壓法生產(chǎn)的多棱邊形金剛石,因?yàn)槎嗬庑谓饎偸艜?huì)有比較好的切削效果,如要拋光切削到1nm 的微小平面度,最好選用80-125nm顆粒的多邊形、多棱形金剛石,用來配制到電鍍液或化學(xué)鍍液中,才會(huì)有比較理想的金剛石鍍膜,達(dá)到所要求 的切削效果。 

       3.2耐磨性鍍膜

       耐磨性鍍膜,最好選用爆炸法或爆轟法生產(chǎn)的球形顆粒金剛石,在配制懸浮液或漿料時(shí),最好是將球形納米金剛石進(jìn)行解團(tuán)聚,使團(tuán)聚體分解成20-30nm 的球形硬團(tuán)聚體,也就是不可再分的球形顆粒金剛石,這種顆粒添加到鍍液中共沉積到鍍件表面形成鍍膜,就會(huì)具有很高的耐磨性和自潤滑性,是一種很好的耐磨鍍層,以NiP 鍍層為例,不加球形金剛石的鍍膜,在HV0.1 850-900 的情況下,與加球形顆粒金剛石的鍍膜,在相同硬度情況下,其耐磨性可提高10-20倍。

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