供應(yīng)SH-13X藍(lán)寶石襯底片無蠟吸附墊
2015-01-15 | 842
- 分類:纖維磨具>無紡布研磨產(chǎn)品
- 供應(yīng)商:東莞市星利達(dá)光電材料有限公司
- 規(guī)格:2寸4寸6寸
- 價格:260.00 RMB
- 單位:片
- 供應(yīng)數(shù)量:10000
- 最小起訂量:10
- 用途:用于半導(dǎo)體硅晶體材料,寶石晶體片,硅片外延片等產(chǎn)品的單面拋光
- 有效期:長期有效
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詳情說明
無蠟拋光模板
無蠟拋光模板又叫吸附墊,背附墊,無蠟拋光墊,主要用于半導(dǎo)體硅晶體材料,寶石晶體片,硅片外延片等產(chǎn)品的單面拋光,屬于電子材料的拋光裝置。這是一種圓形的、由多層樹脂材料組成的復(fù)合結(jié)構(gòu)、硅片用水(或研磨液)粘貼在鑲嵌層圓孔內(nèi)的吸附膜上。采用本實(shí)用新型,可對硅片,藍(lán)寶石進(jìn)行無蠟拋光,其表面總厚度變化小于6μm,省時、省力,本實(shí)用新型制造簡單、成本低。
主要用于半導(dǎo)體硅晶體材料,寶石晶體片,硅片外延片等產(chǎn)品的單面拋光,屬于電子材料的拋光裝置。這是一種圓形的、由多層樹脂材料組成的復(fù)合結(jié)構(gòu)、硅片用水(或研磨液)粘貼在鑲嵌層圓孔內(nèi)的吸附膜上。采用本實(shí)用新型,可對硅片,藍(lán)寶石進(jìn)行無蠟拋光,其表面總厚度變化小于6μm,省時、省力,本實(shí)用新型制造簡單、成本低。
無蠟拋光模板在化學(xué)機(jī)械拋光制程中用于對晶片的固定;無蠟工藝在加工成本、生產(chǎn)效率都較有蠟工藝有更大的優(yōu)勢。XLD-SUNHIN所生產(chǎn)銷售的無蠟?zāi)0蹇梢愿鶕?jù)客戶拋盤大小定制;XLD-SUNHIN新型無蠟拋光模板采用高硬度模板框架,在藍(lán)寶石晶片拋光應(yīng)用的競爭力超越其他廠家的模板。
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